Piccolo dispositivo di trattamento superficiale al plasma ad alta frequenza.

• Funzionalità e funzionalità
● RF 13.56Mhz 0-300W modello ad alta potenza, il generatore corrisponde automaticamente, senza la necessità di regolare le onde riflessive, ulteriormente aumentando la comodità di funzionamento.
● Un sensore digitale Pilani di serie che mostra il vuoto in tempo reale per un controllo più preciso.
● La cavità parallela piatta è ideale per il trattamento in laboratorio di campioni più puri come wafer, schede di silicio e altro, senza preoccuparsi di contaminazione del campione a causa del materiale della cavità.

• Sicurezza e protezione
● Caricare una luce di allarme a tre strati, come temperatura, pressione e anomalie del generatore di plasma, per monitorare e comprendere lo stato di funzionamento della macchina in tempo reale.
● Caratteristiche di sicurezza come interruttore di protezione contro perdite di corrente, circuito di autodiagnosi e allarme del buzzer in caso di anomalia.

• Vantaggi del prodotto
● Buon effetto di pulizia della lavatrice al plasma, alta efficienza di pulizia, grande potenza, ampia gamma di applicazioni.
● Per la pulizia dei campioni, non ci sono requisiti di materiale, dimensioni esterne, ecc.
● Durante il processo di pulizia al plasma, l'aumento della temperatura è molto piccolo e può fondamentalmente raggiungere il trattamento a temperatura normale.
Elettrodo speciale ad alta efficienza è la garanzia della produzione di plasma uniforme.
● Struttura di elettrodo e vassoio appositamente realizzati per garantire una pulizia completa ed efficace del campione.